tem micrograph中文是什么意思

• 透射电子显微镜显微照片

• "micrograph"中文翻译    n. 微写器；【物理学】微动扩大测定器；显微(镜)制图[ ...
• "micrograph" 中文翻译 :    n. 微写器；【物理学】微动扩大测定器；显微(镜)制图[照相、照片]。
• "tem" 中文翻译 :    登; 电磁测深; 控制系统的提起诉讼的限期; 灭火; 目标接战信文; 三亚安三嗪; 三亚胺嗪,三乙撑亚胺均三嗪,三乙撑蜜胺; 三乙撑三聚氰酰胺; 三乙烯亚胺三嗪, 替姆, 癌宁; 瞬变电磁法; 泰米; 泰姆; 透过电子显微镜; 透射电镜; 透射电子显微镜; 透射电子显微术; 英语四八级考试; 英语四级八级; 英语专业等级考试
• "electro micrograph" 中文翻译 :    电子显微镜相片
• "electron micrograph" 中文翻译 :    电镜照片; 电子微动描记器; 电子微写器; 电子显微镜检查，电子显微照片; 电子显微镜相片; 电子显微镜照片; 电子显微镜照相; 电子显微图; 电子显微照相
• "electronic micrograph" 中文翻译 :    电子微为器; 电子显微相片
• "emission micrograph" 中文翻译 :    发射式电子显微镜照片
• "micrograph test" 中文翻译 :    微观组织试验
• "photomicrograph; micrograph" 中文翻译 :    显微照片
• "scanning micrograph" 中文翻译 :    扫描显微图象; 扫描显微照片
• "sem micrograph" 中文翻译 :    扫描电子显微镜照相术
• "brai tem" 中文翻译 :    脑干
• "conventional tem" 中文翻译 :    普通透射电子显微镜
• "pro tem" 中文翻译 :    当时, 当时的, 暂时, 暂时的
• "system tem" 中文翻译 :    系统温度
• "tem cell" 中文翻译 :    横电磁波室
• "tem iconauthor" 中文翻译 :    的输入模板文件格式
• "tem jian" 中文翻译 :    威武剑
• "tem mode" 中文翻译 :    横向电磁波型
• "tem ocillin" 中文翻译 :    替莫西林
• "tem sounding" 中文翻译 :    时域电磁测深
• "tem study" 中文翻译 :    透射电子显微镜分析
• "tem wave" 中文翻译 :    横电磁波
• "tem-6" 中文翻译 :    英语六级
• "tem band 8" 中文翻译 :    专业八级
• "tem technology-enabled marketing" 中文翻译 :    技术辅助式营销

• 2 structure measurement of multi - wall carbon nanotubes after ball milling . the long cnts has been shorted by commen ball milling and effect of time on cnts has researched . the mechanism of cut has been analyzed . 3 the research of adsorption of mnoa by cnts , the tem micrograph of cnts and mechanism were analyzed
  2多壁碳纳米管球磨后的结构表征，采用低速球磨机，使碳纳米管变短，澎器掀蕊研究了球磨时间对碳纳米管的影响，对其断裂机制作了定性分析。
• For xrd , ellipsometry examinations , single - side - polished si ( lll ) wafers were used as substrates and for resistance measurement , glass was used and for infrared examination , double - side - polished si ( lll ) wafers were used and for ultraviolet - visible spectrophotometry , double - side - polished quartz wafers were used and for tem micrograph and electron diffraction pattern observation , cu nets deposited by formvar film were used . the cu - mgf2 cermet films were from 50 to 600nm thick
  用于xrd分析、椭偏测量的单抛si ( 111 )晶片和电阻测试的载玻片上淀积膜厚约为600nm ；用于ir测试的双抛si ( 111 )晶片和uv测试的石英玻璃片上淀积膜厚约为250nm ；用于透射电镜分析的样品则淀积在400目铜网上的支撑formvar膜上，膜厚约为50 100nm 。